“……”

        然后方年毫不犹豫的转移了话题：“光刻机项目进展还算顺利，庐州前沿汇报，不日将试产65纳米工艺的芯片。”

        “预计今年内可试产28纳米工艺芯片，比预期进展要快得多，但在28纳米往下会陷入较大瓶颈；

        如果各大单位给力，材料上有所突破，能在一两年内继续突破。

        在前沿的规划中，再往后可以用euv光刻来突破，一直到物理极限的1纳米。”

        说到最后，方年脸色很不好看的补充了句：“不过……euv的实际进展有点辣眼睛。”

        “毕竟是比欧美晚了十几年才开始研究，心急吃不了热豆腐。”苗为安慰了一句。

        “……”

        其实许多人，包括苗为不明白方年为什么会如此极力坚持euv。

        毕竟理论上duv可以支持到7纳米光刻。

        现在全世界最先进制程的是英特尔，才搞定22纳米。

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