而duv光刻机哪怕只是深紫外线，想要选择镜头也已经相当稀缺，可提供的选择大概就是氟化钙和氟化钡。

        深紫外线的光子能级太高了，太容易被吸收，这可是连臭氧层都进不来的光，树脂什么的就有些天方夜谭了。

        可王易之前靠着魔力对树脂内电子的加持，硬生生的撸到了150nm波长可以通过的程度。

        理论上这玩意儿拿出来，已经能够让卡尔蔡司这种企业头皮发麻，甚至对当前版本的光刻机进行一定程度的升级。

        只是这对于王易来说，却还是相当的不满意。

        他用的可是魔法科技，极限堆到150nm都这么吃力了，未来euv光刻机已经接近x射线临界值的13.5nm，光子能级可是超过了150nm深紫外线能级的十倍！

        所以未来euv光刻机选择的是不断的反射来进行汇聚调整，最终只有4%左右的利用率，这对光源功率、反射材料与精度的需求都极高。

        哪怕是王易，也不可能短时间全部克服这些问题！

        毕竟13.5nm的极紫外线，连空气都能电离了，反射材料本身也会有使用寿命的，还要考虑使用过程中光线对材料的破坏。

        这种高精度的设备，只要有轻微的破坏都足够导致天壤之别的结果。

        所以弯道超车的话，王易要撸出足够让这级别光线通过的材料才行！

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