《半导体行业的革新产品出现》

        《阿斯麦公司率先研发出euv光刻机》

        《芯片工艺制程或将提升十倍》

        《芯片工艺已将达到物理极限》

        在依然还有着‘魔力’‘外星生物’这些热点的时候，阿斯麦的euv光刻机在背后一群资本的运作下，立刻就登上了全球热点。

        本来正常来说，一件商品的更新迭代都是有迹可循的，或者说会有着技术储备。

        比如明明euv光刻机是重新的新开赛道，和以前的duv光刻机关系不大，但在平行世界这也硬是等到了芯片达到了duv光刻机极限的7nm瓶颈后才拿出来的。

        但在这里，因为安布雷拉duv光刻机带来的压力，还有人工智能以及量子计算+超算的模式前景摆在这里。

        为了重新争夺这尖端利润，为了更美好的前景。

        在如今最顶级的芯片工艺制程还是14nm的时候，阿斯麦公司就端出了他们的euv光刻机。

        好说能解决隧穿问题，甚至还能更高！

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